账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
台积电完成0.10微米制程基础模块设计新里程碑
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年04月18日 星期三

浏览人次:【1517】

台积电18日宣布,该公司在先进制程技术的开发上又获得两项重要成果,其一是在十二吋晶圆制造方面,台积电领先业界率先使用0.13微米制程技术成功试产出十二吋晶圆的4Mb SRAM测试芯片。台积电并预计在今年四月起,使用0.13微米、十二吋晶圆制程技术为客户试产芯片。此外,台积电已经完成0.10微米制程技术的基础模块(basic modules)设计,并且在新技术的开发及布局上,未来将更有弹性地与不同技术领域领先的客户进行策略联盟,统合0.10微米制程技术的设计准则,期能同时提高客户与台积电的竞争力。

台积电总经理曾繁城表示,台积电一向致力于提供客户最先进、最完备的制程技术与服务,台积电在十二吋晶圆制造技术以及下一世代0.10微米制程的卓越表现,不仅能进一步提升客户的竞争优势,更再一次确立了台积电在全球晶圆专业制造服务业界的领导地位。他同时表示,未来在新技术的开发及布局上,台积电将更有弹性地与不同技术领域领先的客户进行策略联盟,共同进行0.10微米制程技术的制程整合,在IDM公司逐步加重委外生产的趋势下,将更能同时提高客户与台积电的竞争力。

  

關鍵字: 台積電  曾繁城 
相关新闻
新思科技与台积电合作 实现数兆级电晶体AI与多晶粒晶片设计
Ansys、台积电和微软合作 提升矽光子元件模拟分析速度达10倍
台积电扩大与Ansys合作 整合AI技术加速3D-IC设计
矽光子产业联盟正式成立 将成半导体业『The Next Big Thing』
新思科技利用台积公司先进制程 加速新世代晶片创新
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 挥别制程物理极限 半导体异质整合的创新与机遇
» 跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 关於台积电的2奈米制程,我们该注意什麽?
» 灯塔工厂的关键技术与布局


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BQ87GUIGSTACUK6
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw