「SEMICON Taiwan 台湾国际半导体展」汇集全世界顶尖的半导体科技厂商叁与，连结了IC设计、制造、设备材料等环节，每年均吸引数万人叁观。国家实验研究院仪器科技研究中心（仪科中心）累积40多年光学与真空技术能量，於会场展示已通过半导体制程实际验证之曝光机关键零组件，并展现原子层沉积技术的自主研发成果与客制服务绩效。

为因应产业界对於半导体制程之尺寸微缩需求，以及奈米科技於多元科技之应用发展，国研院仪科中心深耕「原子层沉积技术」（ALD）十多年，已提供学界与业界多套自制ALD系统，并累积创新系统设计能力。此次展出自行研制开发的「电子显微镜试片电子损伤防护镀膜系统」，是一桌上型ALD镀膜系统，专为小尺寸试片与探针制镀超薄奈米结构，具备高密度表面绝缘保护膜制镀品质，并可应用於生物试片与原子解析度三维重构试片制镀。除客制化ALD机台设备外，仪科中心的「原子层沉积联合实验室」服务平台提供前驱物材料合成及筛选、关键制程技术开发，协助半导体产业实现先进系统设计与新颖材料测试。

国研院仪科中心以驱动仪器设备在地化为使命，近年来全力投入半导体设备关键零组件自制开发，建构台湾半导体产业仪器设备自主化的能量与契机。仪科中心将其在光机电及真空领域深耕逾40年的技术能量，与半导体设备产业进行结合，期??带动上下游关键零组件在地化发展，落实半导体设备光学元件自主化制造的目标，提升台湾半导体产业的竞争力。

除了叁加国际半导体展，国研院仪科中心将於9月20日於该中心举办「2018原子层沉积技术发展与产业应用研讨会」，9月21日假新竹竹北丰邑喜来登饭店举办「半导体先进制程及设备研发联盟交流会」，藉由交流会整合产、学、研三方能量，连结半导体上下游产业，提升台湾半导体产业於国际的竞争力。