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Intel弃守157奈米微影技术对大陆业者影响有限
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年06月02日 星期一

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据Digitimes报导,英特尔决定放弃采用157奈米微影技术,藉由193奈米微影机辅以相位移光罩(phase shifting mask;PSM)技术,进行90及45奈米加工技术生产措施,将使得以英特尔为首的国际晶片大厂局势产生巨大变化,大陆半导体业界对此事均表示关注,由于大陆IC设计公司普遍没有进入到奈米时代,该决定对大陆产业影响不大。

大陆晶片制造业者普遍认为,英特尔此次动作对当地业界影响甚微,由于大陆半导体晶片生产技术普遍在0.25微米以下,谈奈米时代为时尚早,整体订单量也并不与英特尔造成冲突,所以大陆产业界虽对此深为关注,但并不认为将成为威胁。

但相较于制造业所持安然态度,大陆IC设计业者则有所反应,生产高阶DSP射频晶片及CPU生产厂商对此深为关注。由于高阶IC设计公司的生产订单,基本上均不在大陆完成生产,对于技术更新变革极为敏感,由于在德仪及英特的通讯晶片等领域发生任何事件,都将直接影响到大陆市场,所以大陆相关IC设计公司均对此表示密切关注。

IC设计业者认为,英特尔极有可能针对其目前提出的通讯市场与计算平台,融合领域进行生产技术调整。目前大陆从事DSP等晶片生产的IC设计公司未来订单走向,将会考虑如何与英特尔这样潜在的通讯市场最大竞争者抗衡,虽然大陆目前IC设计水准,并未达到能与国外大厂相抗衡的地步,但在未来竞争中将难免成为对手。

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