据Digitimes报导，目前大陆晶圆制程虽大多未能达到奈米等级，但在深次微米制程中已开始注重设计验证平台的使用，包括中芯国际、华虹NEC等业者均在设计验证平台中，分别导入Synopsys和Mentor Graphis等验证技术，并在0.18、0.25微米以及0.35微米制程技术中，采用标准化国际验证工具，足见大陆在深次微米部分已达到世界同等水准。

近来中国大陆许多晶片厂在进入奈米制程技术后，纷对其生产线验证进行调整，并在深次微米阶段也逐步进行设计验证，以及生产验证等平台改造，包括Synopsys、Mentor Graphis等均在晶圆厂中推出不同平台。据业界人士指出，在晶圆制程中，IC设计验证极为关键，类比环境中晶片工作情况的细致分析，将有助于保证晶片生产成功率，甚至达到一次成功的目的，这也是晶圆代工厂提供给IC设计公司服务工作的重点。

就晶圆代工厂而言，其所提供必要设计服务怎样使IC设计公司降低风险，并快速占领市场，是其设计服务部门主要使命。而其与IC设计公司配合，使用对应的EDA开发工具，使得EDA工具供应商、IC设计公司、半导体晶圆厂3者完美配合，以便在验证平台保持一致性，从而达到高效率生产的最终目的。