據外電報導，英特爾（Intel）日前宣布將放棄157奈米微影技術，繼續使用193奈米微影製程；而此舉為業界為邏輯晶片業者投下2個疑問：其一是業界是否會因為採取不同微影技術設備，而分成兩大陣營；另外一個疑問便是，英特爾放棄157奈米微影設備的舉動，將會為半導體設備業界帶來什麼影響。

據外電報導，英特爾決定棄守157奈米微影技術，繼續使用193奈米掃描機，進行包括90奈米、65奈米以及45奈米等製程，並輔以使用相位移光罩（phase shifting mask; PSM）及光學近接修正（Optical Proximity Correction; OPC）技術；該公司並計劃在2009年前，導入超短紫外光（Extreme Ultra Violet; EUV）微影設備，用於32奈米製程。

英特爾的決定讓邏輯晶片業者產生2個疑問；其一是晶片產業界是否會因為採取不同微影技術設備而分成兩大陣營；這個議題在業內被討論以久，主要的原因便在於研發新一代製程的光罩成本水漲船高。另外一個疑問則是，向來為半導體業界資本支出龍頭業者的英特爾，一旦放棄157奈米微影設備，將會為設備供應商帶來什麼影響。

以英特爾的優勢位置，對於全球微影設備業者與晶圓廠設備供應商的影響，不可謂不大；德儀矽晶圓科技發展事業群主管Allen Bowling表示，該公司認為半導體業界仍將受惠於157奈米微影技術，由於157奈米微影技術成功的可能性要比EUV技術來得高，再加上更具有成本考量上的優勢，德儀認為，若寄望EUV微影技術在2009年前成熟，未免將希望寄託在尚不可知的未來。

此外，根據Dataquest分析師Klaus-Dieter Rinnen表示，市場能否容許分裂陣營的存在也是一個問題；Rinnen指出，倘若157奈米微影掃描機已然發展成熟，相信英特爾也會改變主意，導入157奈米微影設備，用於發展45奈米以及32奈米的製程上。研究機構VLSI分析師Risto Puhakka則認為，由於193奈米微影技術具有可以向下延展到45奈米製程的用途，半導體產業無法負擔同時存在2、3種不同微影技術同時存在，用於相同的45奈米製程上，因此，市場競爭下只能容許一個贏家。