據網站EE Times報導，設計到光罩聯盟（Design-to-Mask Coalition；DTMC）在近期舉行的OpenAccess會議上，該聯盟的目標是致力將OpenAccess資料庫導入製造領域，並呼籲OpenAccess向「框架」格式演變，為EDA開發商和用戶增加新功能。

該報導指出，OpenAccess會主辦單位為矽整合創新組織（Silicon Integration Initiative；Si2），該機構負責管理用戶支援的OpenAccess聯盟；該聯盟將採納一種能提供多個供應商互通作業性的API介面和參考資料庫實現，在所謂能連接設計和晶片製造的通用資料模型（UDM）中的潛在作用，曾經被談論一時。

OpenAccess的支持者表示，通用設計到製造資料模型能節省數十億美元的光罩製造費用，並將製造和製程資訊反饋給設計師。2003年9月，Si2提出成立設計到光罩聯盟，包含用戶、EDA供應商和光罩製造商。

而目前此一提議已成為事實，Si2總裁兼CEO Steve Schulz表示，DTMC將朝開放標準和技術的方向努力，成為一個社區資源。它將解決可製造性設計、資料準備、光罩製造和晶圓加工等問題。