半導體製程設備業者FSI將於3月23日在新竹煙波大飯店舉辦最新表面處理技術研討會，FSI表示，該研討會將涉及各種表面處理技術的應用，除邀請來自FSI、晶片製造商和化學清洗供應商的專家發表專題演講，會中並將發表多項表面清洗技術應用方案及論文。

FSI表示，該場研討會將以“針對65奈米及更高製程的尖端清洗技術”為主題，針對65奈米製程表面清洗技術，邀請來自美國ATMI、日本富士通（Fujitsu）以及台灣國家奈米元件實驗室（NDL）等各地專家，共同發表新技術，期能藉由剖析發展現況以及趨勢前瞻，為半導體產業建立實質互動的新領域。

FSI董事長兼執行總裁Don Mitchell表示，該公司身為在半導體業界具備30年經驗的設備供應商，將提供全世界的客戶在不同層次上交流資訊的機會，希望藉由在全球各個市場舉辦研討會，提供技術交流與互動的方式，增進對當地客戶的了解並更充分滿足客戶的需求。

FSI為全球IC製程的表面清洗設備技術與支援服務供應商，擁有一系列清洗設備產品，可針對單晶元與批次生產平台，為客戶提供包括浸泡式、旋轉噴霧式，以及氣相與過冷動力等清洗方式。