為了協助實現下世代 MEMS 麥克風和射頻（RF）濾波器的製造，科林研發（Lam Research）推出世界上第一個以生產為導向的脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition；PLD）機台。科林研發的 Pulsus PLD 系統提供具有最高含量的氮化鋁鈧（AlScN）薄膜。可強化先進消費類和汽車元件的表現及功效。將 Pulsus PLD 增加到科林研發產品組合中，進一步擴展科林研發在特殊製程的沉積、蝕刻和單晶圓清潔產品的範圍。RF 濾波器透過增加網路可以處理的頻段數量，同時改善每個使用者的體驗，在 5G、Wi-Fi 6 和 Wi-Fi 6E 效能中扮演關鍵角色。

Lam Research 以生產為導向的脈衝雷射沉積（PLD）機台可實現下世代 MEMS麥克風和射頻濾波器的製造。Pulsus PLD 系統提供具有最高含量的氮化鋁鈧薄膜，可強化先進消費類和汽車元件的功效。

Pulsus 採用突破性技術來沉積高品質薄膜，可強化 RF 濾波器和 MEMS 麥克風效能。薄膜中的鈧含量越高，元件的效能越好。Pulsus 提供的薄膜至少含有 40% 的鈧—這是目前可用的最高濃度。特色是介電損耗低，壓電係數是目前濺射薄膜的兩倍，電能轉換最佳化，從而提高射頻濾波器的靈敏度和 MEMS 麥克風的效能。進一步改善的壓電特性使無鉛的氮化鋁鈧（AlScN）取代鋯鈦酸鉛（PZT）成為可能。

在 Pulsus 的 PLD 製程中，使用密集雷射脈衝撞擊目標材料。靶材被汽化，形成穩定、緻密的電漿羽流，並以薄層沉積在晶圓上。此製程對於獲得高品質、均勻的薄膜以及精確控制厚度和應力至關重要。Pulsus 的問世呈現首次將雷射用於薄膜沉積的大量製造。

Pulsus 的 PLD 功能搭配科林研發的 2300 平台設計，可確保卓越的薄膜均勻性和品質，而每片晶圓的成本僅為傳統沉積方法的一小部分。這種效率可以幫助晶片製造商提高製造良率並加速其產品路線圖的發展。Pulsus 現已出貨給特定的專業元件製造商。