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台厂切入EUV设备核心链 工程能力迈向先进制程关键环节
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2026年04月20日 星期一

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随着先进制程持续推进至3奈米甚至2奈米世代,极紫外光刻(EUV)设备已成为晶圆制造不可或缺的核心技术。近期台湾业者??亿鑫正式跨入EUV设备安装工程领域,并同步建置导入AI与自动化技术的工程制造中心,象徵台湾供应链正由传统厂务支援,进一步迈入先进制程的关键环节。

台湾业者??亿鑫正式跨入EUV设备安装工程领域
台湾业者??亿鑫正式跨入EUV设备安装工程领域

EUV系统以ASML所开发的设备为代表,其运作环境对工程条件要求极为严苛。首先,在气体系统方面,需确保超高纯度等级,以避免微量杂质影响曝光品质;其次,EUV设备需运行於高度稳定的真空环境,以维持光源与光学路径的精准性;此外,整体管路系统亦必须达到极高洁净标准,任何微粒污染都可能导致制程缺陷,影响晶片良率。

因此,能够叁与EUV设备安装,不仅代表具备高阶厂务整合能力,更意味着工程技术已对标先进制程等级。这类工程涉及气体供应、真空系统建置、精密管线配置与洁净室整合等多领域技术,且需在极短时间内完成高精度施工与验证,技术门槛远高於传统半导体厂务工程。

值得注意的是,此次导入AI与自动化的工程制造中心,进一步提升施工与维运效率。透过数据分析与智慧监控,可即时掌握设备运行状态与环境叁数,并优化施工流程与品质控管,降低人为误差风险。这也反映出半导体厂务正从劳力密集转向数据驱动的智慧工程模式。

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