亚舍立科技（Axcelis Technologies）供应先进半导体制程设备，包括离子植入（Ion Implant）、快速热处理（RTP）、清洗（Cleaning）与固化（Curing）等设备。其业务涵盖全球前20大的芯片制造商，并与日本住友重工SHI合资（50％-50％）设立日本SEN Corporation以服务日本市场。目前并积极布局全球以及亚太市场。

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Axcelis资深营销副总裁Mark Namaroff表示，Axcelis所推出的Optima HD离子植入设备，是专为传统高剂量离子植入及65nm以下组件制造应用扩展而开发的离子植入设备。Optima HD离子植入设备的特点是离子能量低，高剂量系统可为市场提供从200eV到80keV的最宽的能量范围，有助于客户覆盖所有传统高剂量植入设备，同时可为重要的中剂量应用提供最多的功能性和投资效率。Optima HD也支持形成双重多晶（dual poly）门和硅绝缘体应用分子和氢的植入，可以提高设备的速度和性能。

Axcelis的表示，Optima HD是市场上最精确、通用和具备高剂量植入生产能力的设备。与Optima平台一样，当市场进入65nm以下制程技术时，Axcelis便设计了Optima HD，以满足晶体管制作过程中所发生的基本变化。Optima HD的问世证明了Axcelis的策略正确，也就是开发可扩展的植入技术，为大多数客户提供满足当前需求的最大灵活性，同时应对新一代晶体管设计和组件结构方面新的挑战。

Axcelis的Optima HD采用先进的点束技术，可提供精确的植入，这将保证晶圆上的所有点在相同的角度得到同样的光束，从而获得优异的植入重复性。此外，该系统采用了Axcelis专有的RadiusScan技术，这是一种可提高生产效率并使系统覆盖各种剂量范围的硬件功能，有助于满足客户传统的和新出现的高剂量植入需求。

采用Imax的新型Optima HD适用于先进内存和逻辑组件的极高剂量、低能量植入应用。Optima HD Imax是该公司对于新款Optima HD平台的扩展，有助于用户大幅度提高生产效率和降低能量；其高剂量技术时间采用了硼簇植入，取代了单一原子逐一植入。而该公司第一台具备Imax功能的Optima HD设备也预计将在年底前出货。

Mark Namaroff认为，Optima HD符合所有先进逻辑组件和尖端DRAM开发及生产的制程条件，其与Imax也提供了最高的飘移（Drift mode）离子束电流，耗能低且没有能量污染风险。此平台符合量产条件的离子流量可真正实现大量生产，且运用RadiusScan技术可使Optima HD在低剂量的应用，于最大产出时仍确保植入的均匀度。