根据外电指出，全球微影设备市场将下降为32亿美元，出货量衰退达433台，比去年的45亿美元减少29％，出货量亦比去年的822台少了47％。事实上，有业者指出，目前微影发展不论就市场或技术来看，都面临一定的发展瓶颈－除了市值下降外，技术研发成本赤不断上升。

台积电微影技术研发协理林本坚曾于今年奈米元件技术研讨会上表示，若一直使用目前业界的微影技术：紫外光源搭配光罩的方式制作微影图案，预计到了50奈米以下时，将遭遇难以突破的瓶颈；目前被认为较具量产可能性的下一代微影技术，为极紫外光（EUV）、电子束投射（EPL）及无光罩法（ML2）。

目前日本与欧洲业者为抢占EUV市场，已投入巨资研发相关设备。据了解，高阶微影设备主要供应商为日本Cano​​n与荷兰ASML，且二家公司的设备效能能相近，但是产品价差高达50％，使得英特尔等厂商转向日商购买设备；根据VLSI Re-search统计，去年微影设备供应商市占率，日商Nikon以41％领先，Canon为32％的市占率次之，ASML则名列第三，为24％市占率。业者指出，为提高市占率，设备商必需投入更高昂的研发成本，才能抢得市场先机，但是何时真正能回收成本，需视市场需求而定。