SBN網站報導指出，光罩業者Photronics宣佈將成立一個科技諮詢委員會，評估與其他光罩供應商合併或購併的可行性。該公司執行長Dan Del Rosario並表示，Photronics打算尋找夥伴，成立「微影平面」（lithography plane）策略聯盟。

Rosario指出，所謂「微影平面」指的是所有影響到在晶圓表面建立圖案的各個步驟，基本上涉及設計、光罩以及微影過程，這其中包括邏輯設計、實體設計、光罩生產以及晶圓表面圖案的成形過程等四個面向。

該報導指出，事實上早已有許多半導體廠商朝向這個方向發展，只是他們從不同途徑來到相同目標而已；荷商半導體設備龍頭ASML在幾年前就已購併一家光罩軟體供應商，現稱ASML光罩設備公司。杜邦光罩（DuPont Photomasks Inc.；DPI）亦在2002年購併一家新創的設計公司BindKey，以期進一步擴展該公司事業，從微影設備光罩製造商，延伸成為微影圖案解決方案供應商。

此外，IC設計業者Synopsys與Cadence分別在2003年1月與5月份時，買下微影軟體與光罩資料應用軟體供應商Numerical與K2科技，使得購併公司得以整合從設計到製造一系列流程。