半導體產業單晶圓洗淨技術業者SEZ Group日前宣佈該公司最新發表的DV-38F系統已獲得台灣某晶圓代工廠商的採用。DV-38F單晶圓溼式洗淨旋轉處理工具，是第一套運用SEZ創新Da Vinci平台的產品─一套能滿足90奈米及其以下設計規格的新一代元件之生產需求，提供穩定的處理效能與高產量的模組化多重反應爐架構。

SEZ表示，低價的高機能微晶片需求大漲，使得近來全球微晶片製造廠商對以低成本確保最大良率的新洗淨方法產生興趣。Da Vinci系統結合了客戶感興趣的單晶圓洗淨技術，挾帶這些優勢到市場，目前SEZ正在促使Da Vinci系統全產品線加速完工，SEZ的新Da Vinci工具將會在明年第一季結束前上市。完整的Da Vinci系列結合SEZ最新且成熟的技術，將提供業者8吋及12吋量產晶圓的溼洗淨處理應用技術。

SEZ行銷長Kurt Lackenbucher指出，「DV-38F的問市代表市場對客製化、單晶圓洗淨解決方案的需求增加。隨著業界邁入90奈米及其以下的技術，晶片業者尋求能以最低成本提供最大良率的洗淨解決方案。DV-38F不僅樹立新的標竿，在面對嚴苛的製程效能需求時，協助客戶克服研發精密IC所面臨的各種洗淨挑戰，同時也提供晶片製造廠商所需的彈性，讓他們的成本運用更具經濟效益。新型Da Vinci系列標記了我們邁入SEZ策略藍圖中的另一個階段，以專利旋轉處理技術成為讓客戶一次購足所有單晶圓處理解決方案的供應商。」