台湾应用材料公司宣布推出全新的Ultima HDP-CVD(tm) Plus Centura(r)系统。新推出的Ultima Plus系统，提供了一组高效率的远距电浆源以及敏捷的cVHP+机械手臂，不但能增加系统的产出率、减少20%以上的设备持有成本，以提供0.13微米以下的技术扩展性。

台湾应用材料表示，Ultima Plus系统的重要特色，在于提供一个全新的远距电浆源，以支援反应室的清洗工作。此电浆源整合了功率输出以及解离电浆源技术，不但能大幅增加反应过程的效率，并降低零组件的损耗；此外，新型的电浆源可减少系统的清洗时间及NF3 的消耗量达40%以上，让反应室的产出率增加10%，并降低反应气体的成本。

台湾应用材料又进一步指出，由于采用「双刃式」（dual blade）cVHP+机械手臂，Ultima Plus生产力得以大幅提升。同时，此机械手臂的设计具有非常安全的晶圆固定系统，将可让晶圆的旋转速度增加三倍，而拥有更好的处理效果及更短的晶圆交换时间。