台灣應用材料公司宣佈推出全新的Ultima HDP-CVD(tm) Plus Centura(r)系統。新推出的Ultima Plus系統，提供了一組高效率的遠距電漿源以及敏捷的cVHP+機械手臂，不但能增加系統的產出率、減少20%以上的設備持有成本，以提供0.13微米以下的技術擴展性。

台灣應用材料表示，Ultima Plus系統的重要特色，在於提供一個全新的遠距電漿源，以支援反應室的清洗工作。此電漿源整合了功率輸出以及解離電漿源技術，不但能大幅增加反應過程的效率，並降低零組件的損耗；此外，新型的電漿源可減少系統的清洗時間及NF3 的消耗量達40%以上，讓反應室的產出率增加10%，並降低反應氣體的成本。

台灣應用材料又進一步指出，由於採用「雙刃式」（dual blade）cVHP+機械手臂，Ultima Plus生產力得以大幅提昇。同時，此機械手臂的設計具有非常安全的晶圓固定系統，將可讓晶圓的旋轉速度增加三倍，而擁有更好的處理效果及更短的晶圓交換時間。