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2003奈米起始年? 疑雲仍未除
從0.13微米跳躍到90奈米,真的如新聞媒體及業者們口中說的,奈米時代已來臨了嗎?

【作者: 謝馥芸】   2003年10月05日 星期日

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我從2000年看著半導體產業起起落落,眼看市場對「0.13微米」一詞轉變為「130奈米」,就技術而言,這種轉變毫無意義,但是對市場來說,奈米時代已來敲門了,把微米改成奈米,對市場來說也較為中聽。


猶記得2001年我還在鑽研0.13微米的技術問題,綜合這類問題,可寫成一大篇的專題,然而對於當時的市場概況,0.13微米是眾家業者努力的目標,它本身存有的問題,並不是市場想關心的話題重點。後來0.13變成130後,有次我詢問Synopsys的公司職員關於130奈米製程技術的問題時,對方回應這類問題已被克服,讓我不禁讚嘆現代科技快速發展。


那麼,從0.13微米跳躍到90奈米,真的如新聞媒體及業者們口中說的,奈米時代已來臨了嗎?說真的,我還真有種作夢的感覺,直到九月初在台北與一位光電產業專家聊天,我請教他有關奈米產品真正現身於市場的時間點為何?五年的時間夠不夠讓產品現世?他簡略回答「不可能」。也就是說,目前市場90%以上的「奈米產品」都是不可信任的。再從90奈米跳到65奈米,今年9月IP公司Artisan Components業務開發資深副總裁Jim Hogan表示,該公司尚未聽到市場上關於65奈米的計畫,並指出130奈米才剛成為主流。


今年七月美國Pacific Crest Securities公司分析師Michael McConnell表示,率先成功利用Low-K介電材料的晶圓代工廠,將有可能奪得市場主流地位。就二大晶圓代工廠台積電與IBM來看,台積電預計將把應用材料(Applied)的Black Diamond CVD之Low K薄膜應用於90奈米;IBM則決定在SiLK和Novellus的CVD材料Coral產品線做決擇。另外IDM廠也急於搶佔90奈米市場。英特爾(Intel)選擇荷蘭ASMI為Low K供應商,該公司針對Low K領域,提供CVD薄膜-Aurora,K值為3.0~2.7。


根據2002年ITRS及2003年MIC資料結果顯示,製程精細度發展趨勢,DRAM 1/2 Pitch於2003年為100奈米,明年即可達到90奈米;MPU/ASIC 1/2 Pitch於2003年為107奈米,明年一樣進入90奈米。


技術演進總是不可能完全順利的,90奈米製程最大的問題是:前段193 nm微影蝕刻製程等曝光圖樣不成熟、後段銅/Low-k等新材料帶來良率問題。新材料與新製程帶來良率下降的考驗,因此依現在情勢看來,誰能提早克服新材料與製程問題,誰就能帶領產業進入奈米時代。


最後最折磨業者的問題:90奈米產品之良率有多少?在各家都急於表示自己有技術能力進入90奈米的世界的同時,目前到底有哪家廠商能保證良率絕對OK?另外,殺手級應用領域包括寬頻、感測器和無線,此三大熱門市場之利潤,能否橕得起業者蓋一座價值高達30億美元的90奈米晶圓廠?現在大家流行講奈米,但真正有本錢做奈米的人是誰呢?看來,2003年,離奈米年仍有距離。


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