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晶圆级相机技术的关键整合优势
 

【作者: 魏煒圻】2008年08月28日 星期四

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影像感测器、光学镜片及影像处理器,是数位相机撷取影像的三个基本元件。光线进入光学镜片后,被传送到影像感测器并转换成电子讯号,再由影像处理器将电子讯号转换成标准格式。


影像感测器与影像处理器是透过半导体技术制造而成,这些元件的制程是在晶圆层级阶段完成,因此,厂商能藉由大量生产来降低制造成本。另一方面,传统的光学元件则是利用标准的塑胶模制或玻璃研磨技术,以小批量循序的模式来生产。大多数用来制造手机相机模组的光学元件,都采用不耐高温的塑胶原料所制。因此,这些相机模组必须先组装在可挠式缆线(flex lead)或插座,再安装至电路板上。由于相机模组必须与手机基板上的其他IC元件分开组装, 使得所需的材料增加,造成额外的人力负担与制造周期的延长,最后导致总体成本的上升。随着影像感测器的尺寸持续变小,光学镜片的面积也必须跟着缩减。但由于制造的高复杂性,若运用传统技术降低光学元件尺寸,将会导致成本提高。为降低尺寸与成本,新的光学元件制造技术便应运而生,这种技术就是晶圆层级光学元件(wafer-level optics)。


晶圆级相机技术

在各种制造方法中,业者大都偏爱运用平行制程,透过大量的元件产出来分担制造成本,而Tessera的OptiML晶圆级相机(Wafer-Level Camera)技术也是以此为基础的技术。运用标准半导体技术及耐回焊(reflow-compatible)的材料,能在单片晶圆上同时制造出数以千计的镜片,接着再运用晶圆堆叠技术,将数个光学晶圆进行对校准与接合。接合的光学晶圆被切割成许多单一的整合光学镜片后,便可安装到影像感测器上。


运用这种晶圆级制程,光学镜片的尺寸可缩减到和影像感测器相同的尺寸,同时相机模组所需的元件数量也能降低。此外,这种方式不需要人工调校光学元件的焦距。图二中两种传统VGA相机模组与晶圆级VGA相机模组的比较,可明显看出尺寸上的差异。


《图一 OptiML VGA相机与两种传统VGA相机模块的尺寸比较》
《图一 OptiML VGA相机与两种传统VGA相机模块的尺寸比较》

在大多数的相机模组中,影像感测器是材料中最昂贵的元件。由于感测器是在晶圆阶段完成,许多制造商正尝试让每片晶圆达到最佳的产量,借以降低每个单一零件的平均成本。为达成这项目标,半导体技术开始转移至越来越小的节点,借以制造出更小的元件。在2004年时,典型VGA影像感测器占用的电路板面积约为16mm2,像素尺寸为5.5um。现在相同的VGA影像感测器,底面积仅四分之一不到,像素尺寸更缩小到2.2um以下。 CMOS节点也从350nm缩小至130nm。未来像素尺寸将继续缩小至1.5um以下。


因应影像感测器的尺寸的继续缩减,光学元件也必须大幅缩小。然而,传统元件是在元件层级进行制造,因此要缩小尺寸极为困难,更无法降低制造成本。在许多情况中,降低尺寸往往导致成本提升,原因在于制造的困难度增加,导致良率下滑,而WLC技术是一种真正晶圆级技术,因此可以解决这方面的难题。缩小光学元件的尺寸,事实上就增加了每片晶圆所产出的镜片数量,进而降低每个镜片的成本。因此,运用WLC技术来制造光学元件,让光学镜片技术能搭上半导体产业发展的顺风车,随着像素尺寸与CMOS节点环境的持续缩小,发挥各方面的成本好处。


目前OptiML晶圆级相机技术所适用解析度范围,涵盖从VGA等级到百万像素以上范围。运用影像强化技术,三百万像素解析度以上的相机,则可以在拍摄五十公分之内距离的物体时,强化对焦效果。


晶圆级相机制程

晶圆级相机技术运用各种半导体科技,在单片晶圆上一次制造出数千个镜片,这些镜片是利用传统的微影、蚀刻及复制技术来制造。


《图二 在晶圆层级上制造出数千个镜片》
《图二 在晶圆层级上制造出数千个镜片》

根据相机模组的性能要求,设计晶圆级的镜片并制造出最终光学组件所需的晶圆数量。在制造出所有镜片晶圆后,再利用晶圆堆叠技术让这些晶圆进行校准与接合,制成一叠晶圆光学元件阵列。 (如图三)


《图三 OptiML 晶圆堆栈(WaferStack)技术带来了晶圆级镜片模块》
《图三 OptiML 晶圆堆栈(WaferStack)技术带来了晶圆级镜片模块》

接着堆叠的晶圆被切割成光学元件(图四)。利用这项技术,光学堆叠内的镜片会固定在精确的位置,不需用到昂贵且影响良率的人工对焦。然后,完整的光学镜片模组即可安装至影像感测器上,构成相机模组。


《图四 堆栈的晶圆切割成许多光学镜片模块(示意图)》
《图四 堆栈的晶圆切割成许多光学镜片模块(示意图)》

如前所述,用来制造这些晶圆级镜片的材料可承受回焊的高温,让制造商能运用标准的回焊技术来组装手机中的相机模组。此外,运用MVP技术来封装影像感测器,还能进一步强化耐回焊所带来的成本效益。利用这项技术,影像感测器从初期的制程阶段便被封装在外层的玻璃中。电子接点配置在矽元件的背面,连结至焊点。


《图五 使用芯片尺寸封装技术的影像传感器》
《图五 使用芯片尺寸封装技术的影像传感器》

根据Prismark的报告预估,在2011年将有至少50%的影像感测器,采用晶片级封装技术。



《图六 影像传感器封装技术的市场趋势》
《图六 影像传感器封装技术的市场趋势》数据源:Prismark

把晶圆级光学镜片模组置于晶片级封装感测器上(图七),建构出真正晶片级的相机模组,再透过一般IC所使​​用的标准回焊制程,便能直接装在手机的电路板上。


《图七 WLC光学镜片模块装配在SHELLCASE 封装的传感器上。》
《图七 WLC光学镜片模块装配在SHELLCASE 封装的传感器上。》

以下影像是利用业界的照相手机及晶圆级相机所分别拍摄,从比较图中可看出模组尺寸大幅缩小,材料成本也降低;此外,利用晶圆级相机技术所产生的影像,品质和其他影像亦不相上下。



《图八 两种传统照相手机与WLC照相手机之模块与拍摄影像比较》
《图八 两种传统照相手机与WLC照相手机之模块与拍摄影像比较》

影像强化技术

延长景深(EDoF,Extend Depth of Field)以及低光源拍摄功能,是照相手机厂商引颈企盼的两项热门功能,采用制动器的传统自动对焦解决方案,其性能确实胜过定焦相机,但同时也存在许多缺点,包括成本昂贵、难以小型化、使用次数有限,以及受限于机械零件的磨损,导致无法符合严苛的光学误差容许等,因此仅能提供有限的景深,且拍摄时须等候相当久的时间,才能达到稳定的对焦设定。而Tessera运用专利的OptiML Focus技术,从前景到背景的影像都维持清晰锐利,无须使用可动的零件,仍能提供更高的影像品质,胜过现有的定焦解决方案。


OptiML Focus技术结合镜片设计以及小型化的数位演算法,得到对焦锐利的影像,以及优异的低光源拍摄功能。演算法能建置在硬体或软体,整合至感测器、影像处理器、应用处理器,或是以离线的模式来执行。


现今的数位相机通常无法兼具景深对焦与低光源拍摄效能。但运用OptiML Focus技术,相机模组能同时拥有这两种功能,提供景深效果以及高品质的低光源拍摄功能。图十显示OptiML Focus技术在拍摄近距离与远距离物体的效果。



《图九 OptiML Focus技术可确保从前景到背景皆清晰锐利的影像,》
《图九 OptiML Focus技术可确保从前景到背景皆清晰锐利的影像,》

完全没有用到可动的零件


关键在于垂直整合

传统相机模组都是由模组制造商来生产,在大多数情况下,这些模组制造商会从不同供应商购买相机零组件:半导体厂商提供影像感测器与影像处理器、镜片制造商提供光学元件等。因此,模组制造商必须承担每家供应商的成本。


为降低相机模组的成本,让相机能够整合到超低阶的手机,所有元件的价格都必须兼顾,为了达成这项目标,业界已经着手针对模组制造商提高垂直整合度,例如,模组制造商除了光学元件外,也生产矽感测器晶圆,这将能降低每个元件的成本,最终达成降低相机模组的整体成本。预料这样的垂直整合,在未来数年将出现在半导体产业。


(作者为Tessera台湾区总经理暨东亚区总监)


参考资料:

Market Breakdown of Camera Phone – 2难道 Half 2006 & 1身体 Half 2007 Forecast%2C TSR May 2007


CCD/CMOS Area Image Sensor Market Analysis, TSR March 2004


Prismark


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