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华邦明年将采8吋厂0.175微米FLASH制程技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2000年12月07日 星期四

浏览人次:【3779】

华邦电子规划明年运用8吋厂0.175微米制程,投片生产高密度闪存 (Flash),预计制程技术将超过旺宏;Atmel控告华邦侵权案,可望于12月16日宣判,华邦电上诉成功将获得每颗0.7美元的保证金退回。

华邦电表示,该公司近期与外商业者签订Flash开发制造合约,正式引进高密度Flash生产技术 (NAND及NOR),预计明年以0.175微米制程试产数据储存型 (Data)及指令存取型(Code)Flash,制程与英特尔相当。

目前华邦电Flash产品尚属低阶,由华邦一、二厂 (5吋及6吋厂)产出,制程为0.5微米以上,销售美国比率仅占3%左右;四、五厂月产能3万片,明年加入Flash投片后,有充裕产能及制程技术发展32Mb以上高密度产品。

關鍵字: 快闪记忆体   华邦电子  旺宏電子  多次刻录只读存储器 
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