据消息指出，IBM已经表态支持超紫外线(extreme ultraviolet，简称EUV)光蚀刻技术，此举意味该技术将成为半导体业界新一代的芯片制程标准。据了解，IBM已经同意加入超紫外线有限公司(EUV LLC)，此技术将可让芯片设计商生产尺寸更小、执行速度更快的处理器。

EUV光蚀刻技术可让计算机制造商在芯片上绘制更小的电路。其光线波长较短，芯片制造商得以将极为繁复的电路图投射到硅晶圆上。这种进步可使厂商进一步浓缩芯片，不必担心无法再挤入更多晶体管的瓶颈。以EUV制程生产的芯片预估将于2005年问市，执行速度约为10-GHz。