今年蔡英文总统就职演说中宣示的国家六大核心战略产业中，「资讯及数位相关产业」的内涵之一是要推动新世代「半导体前瞻技术」与「建立工业基础设备关键零组件与模组自主供应能量」。为提前布局新世代晶片研发，行政院科技会报亦擘划「埃（A，0.1奈米）世代半导体计画」，由科技部及其他部会一起跨部会执行。国家实验研究院台湾仪器科技研究中心（国研院仪科中心）在科技部指导下，配合上述政策，积极发展先进半导体设备，期能落实半导体设备自主化的目标。

国研院於台湾国际半导体展展示高阶仪器设备自主研发成果

国研院仪科中心深耕光机电及真空领域逾45年，近年来将核心技术实践应用於半导体设备自主化，开发出第一台由国人自制之「原子层蚀刻」（Atomic Layer Etching；ALE）设备，并实际结合国家实验研究院台湾半导体研究中心（国研院半导体中心）之半导体制程平台，完成半导体元件制作及验证测试。此半导体制程设备与技术平台成果於9月23日至25日南港展览馆「SEMICON Taiwan 台湾国际半导体展」发表，并同步展示半导体产业高阶仪器设备自主研发成果与客制服务绩效。

除了实体成果展示外，国研院在9月24日下午於半导体展「创新技术发表会」（TechXPOT）举办「国研院先进半导体设备与制程技术」在地化成果发表会。国研院仪科中心杨??州主任表示，国研院在开发半导体产业未来发展布局所需关键仪器设备之成果有目共睹，结合仪科中心与半导体中心强大的研发能量，国研院可提供国内先进封装曝光机厂商及原子层蚀刻设备厂商最隹的研发服务平台。

台湾的半导体产业在国际上具有重要地位，但半导体仪器设备却多仰赖国外进囗，制程技术受国外设备商所箝制，机台价格昂贵且维修不易。国研院仪科中心在科技部的政策引领下，以驱动仪器设备在地化为使命，近年来全力投入半导体高阶仪器设备及关键零组件之自研自制，协助国内半导体设备供应链在地化发展。因应产业界对於半导体制程之尺寸微缩需求，以及奈米科技於多元科技之应用发展，仪科中心发展「原子层沉积技术」（ALD）十多年，已提供学界与业界多套自制ALD 系统，并累积创新系统设计能力；近期更与国内在地设备商合作开发「12 寸丛集式 ALD 设备」，成功取得国际大厂多台设备的正式订单。

此外，国研院仪科中心已开发出国内第一部自制先进原子层磊晶蚀刻（ALE）设备，并经由国研院半导体中心之制程平台制作出 E-mode 氮化??（GaN）元件，成功测得电性并通过各项验证测试。自制原子层磊晶蚀刻设备之元件模组技术验证成果，以及多样态曝光机客制化光学元件展品於「SEMICON Taiwan 台湾国际半导体展」现场展示，落实蔡总统所提半导体设备及关键零组件自主化目标。

在 COVID-19 疫情影响下，各产业规模衰退，半导体产业目前受疫情冲击虽较其他产业轻微，但真正的挑战将落在全球经济活动骤减、需求萎缩後；加上中美贸易战显现生产设备左右了制造生产的自主性，更影响了整体生产供应链的经济活动。国研院期??透过本次展览及发表会交流，展示出台湾自主研发半导体设备之能量，吸引更多业界人士投入仪器设备产业，扭转现今多为代工的半导体产业分布，厚植及深根本土基础仪器技术，以迎接後疫情半导体设备自主化时代来临。