账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
DRAM业者转0.11微米制程 时程将延后
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年02月12日 星期三

浏览人次:【2501】

据经济日报报导,由于DRAM业者筹资管道不顺,三星、美光及英飞凌等大厂转进新世代制程脚步放缓,国内四大DRAM厂0.11微米制程转换也延后,预计要到第四季才能小量生产。业者预期,今年全球DRAM产能增加幅度,可能低于50%。

茂德营业处长林育中表示,过去DRAM厂的制程转换周期,大约是四到五季完成一个世代,不过从0.14微米开始,有延后的现象,预计0.11微米,可能要六季,也就是一年半才会完成制程转换。林育中指出,全球DRAM厂中,三星最为积极,内部评估第四季有七成产能出自0.11微米,其余如美光、英飞凌及南科等厂商,都要到明年才能全数转换,因此整体评估,全球DRAM产能增加幅度,大约在50%左右。

根据转换时程,华邦电、南亚科技及茂德技术同样来自英飞凌,三家公司预计今年第四季转进0.11微米,正式进入量产,不过良率趋于稳定,可能延至明年第一季。力晶采用堆叠式(Stack)架构,进度与上述三大厂商不同,预计下半年微缩至0.12微米,至于技转自Elpida的0.1微米制程,则要到明年第二季才能量产,进度稍微落后​​。

华邦电总经理章青驹表示,该公司0.11微米制程要到下半年才会正式销货,按照合约规定,全数售予合作伙伴英飞凌。南亚科技执行副总经理高启全则表示,以现况分析,转进0.11微米的重要性高于12吋晶圆厂,不过,设备商已停止研发用于8吋晶圆厂的90奈米制程,因此,12吋厂将维系长期发展的竞争力。

關鍵字: 茂德  三星  美光  英飛凌  动态随机存取内存 
相关新闻
美光针对用户端和资料中心等市场 推出232层QLC NAND
IDC:2024第一季全球智慧手机出货成长7.8% 三星重返第一
美光正式量产HBM3E 功耗较前代降低约 30%
美光率先推出基於LPDDR5X的LPCAMM2记忆体
美光推出128GB DDR5 RDIMM记忆体 为生成式AI应用提供更隹解
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 关於台积电的2奈米制程,我们该注意什麽?
» 开启任意门 发现元宇宙新商机
» EV用电池三分天下,逐鹿次世代车用市场
» 延续后段制程微缩 先进导线采用石墨烯与金属的异质结构


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK84UA8OFBMSTACUKK
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw