日本NEC日前宣佈，該公司已在0.1微米的半導體製程技術獲得重大突破，NEC在全球率先研發成功的0.095微米的半導體技術，將運用於製造大型IC，並將在上半年推出市場。與以往採用0.13微米技術的產品比較，採用0.095微米技術製造的新產品容積量增加了19倍之多，可以節省30%的電能，且能夠有高達1GHz的運行速度，這對高速大容量通信系統和省電要求很高的設備來說，具有很高的應用價值。因此，專家們認為半導體技術0.1微米的突破，將為網路發展帶來重大的助力。

專家們曾經預測，到2003年，全球半導體業界將超越0.25、0.18及0.15微米製程技術，進入0.13微米製程的新領域，而現在由於日本NEC公司提前突破了0.1微米製程技術，因此專家們認為全球半導體技術的發展將會加速，半導體製造廠商將會以更先進的技術加快升級，以適應新的市場需求。