英特爾公司15日啟用了一座12吋晶圓研發實驗室(代號RP1)，據了解，該座造價達2.5億美元的廠房是業界第一座專門用於12吋晶圓晶片製程的研發廠。英特爾研發人員將利用RP1發展新一代的照像印刷技術、高效能電晶體、先進互連線路(銅導線與光纖)，以及環保製程(新的材料與化學製劑)。這項新技術能讓英特爾研發人員繼續發展全球最小且最快的電晶體。電晶體愈小其速度就愈快，而更快的電晶體則是更高速的微處理器重要基礎。

英特爾公司資深副總裁暨技術與製造事業群總經理Sunlin Chou博士表示：「英特爾的技術團隊透過研究、開發、發展及製造等步驟，更有效率地推動創新研究。英特爾RP1廠緊鄰D1C廠而設，有關12吋晶圓的技術管道根基均已就緒，可以使摩爾定律持續擴展到更大尺寸的晶圓上。」