半导体产业目前有几大趋势，包含物联网、工业自动化、人工智慧、自动驾驶、5G通讯等等，这些趋势发展代表我们会看到许多大数据产生。半导体产业已经历经几波革命，现在已经到了第四波工业革命，第四波工业革命就是由上述的趋势所带动。这些趋势对半导体成长非常有帮助，因为这些趋势带动晶片需求。

英特格技术长James O’Neill分享英特格的全方位解决方案，包括材料科学与分析、先进材料及微污染控制，以符合客户技术需求。

特用化学原料暨先进科技材料龙头供应商英特格（Entegris Inc.）成立迄今已经有50年历史，去年整体营收达16亿美元。英特格的使命是运用科学为基础提供解决方案，协助半导体客户在先进制程上应对各种挑战。

为了迎接这些挑战，不同时期有不同策略。在个人电脑时代仰赖微缩技术，因为装置也越来越小；到了行动装置时代，更导入新的材料增加效能，以延续摩尔定律；到今天这个时代，我们不只需要微缩技术，更仰赖3D技术以及新的架构。过程中，材料技术不断演进，且应用的材料本质也开始改变。

英特格技术长James O’Neill指出，新的材料、晶片、形状都与过去不同，对於半导体制程来说都是很复杂的挑战。举例来说，从20奈米转换到7奈米，复杂程度是过去的两倍。技术要验证得要更快，所以整个生产周期时间都是更短的。这也表示我们在采用先进制程时，要达成较隹的良率更为困难，产业的重点就在於如何快速达到好的良率。这也就是英特格的优势所在。

James O’Neill认为，要提高良率重点之一是污染控制，从28奈米到7奈米，对於金属杂质容忍程度已经减少1,000倍，而晶圆致命微粒则缩小将近四倍，这点非常重要，因为只要杂质或微粒等污染的容忍程度有了细微变动，对晶圆厂获利都会造成很大的影响。

在半导体先进制程中，需要新的金属材料去提高阻抗与可靠度，当金属材料改变时，下游制程，像是如何清洗都须要一并改变，因此，半导体制程中导入新的材料绝对不是一个简单的过程。在材料品质的微粒控制来说，对於微粒可容忍的程度越来越低，即对污染控制要求更高。以现今的半导体制程的污染控制挑战来说，我们可以打个比方，就像是在台湾整座岛上要找出两个硬币那样的困难。

James O’Neill说，整个半导体生态系中，每个步骤都要顾虑污染控制，包括工厂中怎麽制作和包装化学品、如何运送与在工厂中使用与储存，每个步骤都相当重要。我们有各项产品和解决方案，确保整个制程、输送时不受污染。

对材料公司来说，在生产与制造材料过程中保持产品的洁净度已经不够，必须要在整个生态系统中维持化学品洁净度。英特格提供整个生态系统一贯的解决方案并提高晶圆良率。?

除此之外，英特格也着重化学品的安全性，特别是大量化学品供应和输送在各面向的安全性，包括复杂的化学品在接头、管线安全性都要顾及。

James O’Neill也看到了蚀刻技术的大幅进步，现在导入的是极紫外光EUV，很多大厂也导入EUV光蚀刻技术。英特格EUV制程的污染控制与光罩盒领导者，我们的过滤技术更能确保材料放在pattern上维持洁净度。

半导体制程中，运用EUV的光蚀刻技术可再进一步细分成好几个步骤，英特格不仅提供光罩盒，还有特殊化学品、过滤器、过滤技术，以及制程中各方面需要的材料和污染控制，惟有英特格能够提供最广泛的解决方案。