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新思科技的實體合成整合於NEC的階層式設計流程當中
 

【CTIMES/SmartAuto 黃明珠 報導】   2002年01月10日 星期四

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新思科技(Synopsys)十日宣佈其Chip Architect 與 Physical Compiler(TM) 產品已經整合於NEC科技的階層式設計流程當中,此項整合成功地實現使用NEC的0.13微米製程完成五百萬邏輯閘、166 MHz 多媒體大型積體電路(LSI)的晶片設計。在接下來的幾項計劃當中,NEC已經決定在其全球世界各地的設計中心,全面落實將Chip Architect 與 Physical Compiler(TM)整合於其階層式的設計流程當中。此舉將可為複雜的數百萬邏輯閘系統單晶片設計提供NEC最先進的矽晶技術─CB12(0.13微米製程) 以及更小的製程。

NEC科技系統大型積體電路(LSI)設計工程部首席經理Yoshitada Fujinam表示,「NEC 瞭解,支援更大規模的複雜晶片設計之設計環境,是能滿足客戶需求的最重要設計因素。而藉由實際使用NEC包含新思科技實體合成階層式設計流程的0.13微米製程來設計五百萬邏輯閘、166 MHz 多媒體大型積體電路(LSI)的晶片,我們確定:這項新的設計方法不只能夠支援設計環境的規模大小,同時還提供了我們所曾經歷過最佳的時序收斂。有鑑於此,以及其他許許多多的成功案例所示,NEC已經決定將Chip Architect 與Physical Compiler(TM) 納為我們新一代階層式設計流程的主要部分。」

新思科技表示,在使用Physical Compiler進行邏輯合成與配置之前,NEC 倚賴Chip Architect來進行來設計規劃與分析。而藉由使用Physical Compiler來進行區塊與晶片層級的時序收斂,NEC 已經發展出一套全晶片時序收斂的方法。

新思科技實體合成事業單位副總裁暨總經理Sanjiv Kaul表示,「NEC先進的矽晶技術,加上其成功設計出眾多複雜特殊應用晶片 (ASICs) 之悠久歷史,已經使NEC成為業界的領導先驅,NEC選擇新思科技邏輯合成方法為其標準的0.13微米製程階層式設計方法之核心,對於這項技術而言,無疑是一個很強而有力的背書。」

關鍵字: 新思科技  NEC  LSI設計  EDA 
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