帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
力晶與Elpida 將合作研發0.11微米DRAM製程
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2002年12月04日 星期三

瀏覽人次:【1796】

據國內媒體報導,日本DRAM製造商Elpida社長阪本幸雄,日前密訪力晶半導體,雙方並達成共同合作研發利基型DRAM及0.11微米製程的協議,阪本幸雄並強調不會把堆疊式DRAM製程技術移轉給茂德。

根據力晶轉述會議內容,Elpida基於研發費用考量,將委託力晶負責利基型、通訊用記憶體晶片研發,如繪圖DDR及1T SRAM等產品;未來0.11微米製程,也將交由力晶12吋晶圓廠進行研發及試產。

而據指出,阪本幸雄否認外界宣稱、茂德已與Elpida達成技術轉移協議的消息,並向力晶保證,未來不會也不考慮技術轉移新製程給茂德。

力晶董事長黃崇仁表示,力晶半導體8吋晶圓廠將轉型為日系整合元件廠(IDM)晶片服務公司。為此力晶特別成立力華,整合IC設計服務及矽智材(IP)業務,準備承接日本客戶訂單。

關鍵字: Elpida  力晶  動態隨機存取記憶體 
相關新聞
力晶斥資2780億元興建12吋新廠 躋身晶圓代工3雄
新戰國時代?智慧手機競爭進入秩序重整期
台灣DRAM產業加速解構重組
DRAM狂虧 力晶棄守EUV轉交爾必達
力晶與爾必達率先減少每月一成DRAM產量
comments powered by Disqus
相關討論
  相關文章
» 未來無所不在的AI架構導向邊緣和雲端 逐步走向統一與可擴展
» 延續後段製程微縮 先進導線採用石墨烯與金屬的異質結構
» 提升供應鏈彈性管理 應對突發事件的挑戰和衝擊
» 專利辯論
» 碳化矽基板及磊晶成長領域 環球晶布局掌握關鍵技術


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HK85EDZ4GI4STACUK0
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw