日本半導體設備大廠Tokyo Electron（TEL），日前發表該公司最新CLEAN TRACK ACT M光罩技術，該技術為一種應用於90至65奈米製程的高性能光光罩抗蝕塗裝/顯影機，並已可接受訂單。

根據EE Times網站報導，TEL的CLEAN TRACK ACT M的製造採用了該公司專有的CLEAN TRACK ACT平台，並配合其多年半導體晶圓和平面顯示器抗蝕塗裝/顯影技術。該產品適用於90～65nm元件製程節點的光罩處理。

新產品採用三個獨立的高性能應用模組，包括一個光罩顯影機、光罩抗蝕塗裝機和光罩PEB（曝光後烘烤）裝置。可因應OPC（光學近似校正）、相移和採用化學增強抗蝕中日益增加的複雜性，在提供精細製程更加先進的光罩處理控制與技術。

此外CLEAN TRACK ACT M中分離的光罩顯影機、光罩抗蝕塗裝機和烘烤裝置可配置在一個系統中，可在減少加工缺陷的同時，增強了光罩內部以及光罩到光罩處理的一致性。