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Tokyo Electron發表新一代光罩技術
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2004年04月18日 星期日

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日本半導體設備大廠Tokyo Electron(TEL),日前發表該公司最新CLEAN TRACK ACT M光罩技術,該技術為一種應用於90至65奈米製程的高性能光光罩抗蝕塗裝/顯影機,並已可接受訂單。

根據EE Times網站報導,TEL的CLEAN TRACK ACT M的製造採用了該公司專有的CLEAN TRACK ACT平台,並配合其多年半導體晶圓和平面顯示器抗蝕塗裝/顯影技術。該產品適用於90~65nm元件製程節點的光罩處理。

新產品採用三個獨立的高性能應用模組,包括一個光罩顯影機、光罩抗蝕塗裝機和光罩PEB(曝光後烘烤)裝置。可因應OPC(光學近似校正)、相移和採用化學增強抗蝕中日益增加的複雜性,在提供精細製程更加先進的光罩處理控制與技術。

此外CLEAN TRACK ACT M中分離的光罩顯影機、光罩抗蝕塗裝機和烘烤裝置可配置在一個系統中,可在減少加工缺陷的同時,增強了光罩內部以及光罩到光罩處理的一致性。

關鍵字: TEL  半導體製造與測試 
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