明導國際(Mentor Graphics)宣佈推出Calibre OPCverify工具。Calibre OPCverify代表光學製程修正技術(OPC)的新時代已經來臨，它的出現讓Mentor可製造設計(DFM)產品線更強大。半導體廠商可以利用Calibre OPCverify管理製程變異對晶片良率的衝擊。

Calibre OPCverify使用已通過晶片驗證的Calibre OPCpro模擬模型，這種下一代RET驗證工具提供100%的晶片模擬涵蓋範圍以確保晶片圖案轉移成功。Calibre OPCverify像素式模擬引擎所採用的專利演算法可定義不利於圖案轉移的各種條件(摻雜濃度、焦距)，進而克服製程變異所產生的負面影響。Calibre OPCverify的所有建模功能都已針對濕浸式微影技術(immersion lithography)等最先進製程條件完成徹底的特性分析。Calibre OPCverify工具還採用最嚴謹的模型開發與驗證方法，這使它能同時滿足RET配方驗證和光罩檢驗的最嚴苛要求。

Calibre OPCverify可透過一套稱為Calibre Verification Center的使用者界面完成安裝與設定工作。使用者只要利用Calibre OPCVerify和Calibre Verification Center，就能在24小時內把完整精確的RET光罩驗證流程完美整合至現有的後佈局流程。

使用Calibre OPCverify和Calibre Verification Center的另一優點是這些工具都能以最佳方式利用現有硬體，例如它們能結合今日工作站的高速運算效能和Calibre Mtflex的並行處理能力來大幅縮短全晶片RET驗證的TAT時間 (Turn Around Time)。由於這套工具與所用的設計方法無關，使用者將會發現驗證所需時間穩定而能預測，整套工具也具備良好的擴充性。雖然實際驗證時間與所用硬體有關，Calibre OPCverify兆像素模擬器可以擴充使用數百顆處理器，同時支援展平式或階層式設計。

「後OPC流程輸出驗證可將高成本的光罩重製過程和上市時間延誤減至最少。」特許半導體 (Chartered Semiconductor) 技術開發事業群的技術支援部門OPC經理Choi Byoung Il表示，「我們可以利用微影製程適用範圍的驗證能力擴大目前所使用的圖案轉移精確度檢查方法，這能讓我們更早發現易受製程影響的晶片結構，進而改善OPC的品質。」

「90奈米和更先進製程使得OPC更複雜和限制更多，因此需進行驗證以避免晶片發生問題。」Mentor Graphics設計與製造部門副總裁暨總經理Joe Sawicki表示，「Calibre OPCverify能節省光罩成本和提供更穩定的良率，這能為客戶帶來理想的投資報酬率。」