半导体与电子封装领域材料解决方案领导厂商贺利氏,在本次2018台湾国际半导体展(SEMICON Taiwan),展出一系列可被广泛运用於工业应用中的解决方案,包含新型红外线辐射器、超细焊锡粉制成的焊锡膏以及高纯度石英玻璃。
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全球半导体和太阳能产业首创技术black.infrared是一款创新的红外线系统,完全根据全新的辐射器原理工作。平滑低轮廓的辐射器被特殊研发的石英玻璃材料覆盖,这种组合有助於在高能量密度下极均匀地传输红外线热能,使得加热过程在空间和能量上效率更隹。特别是在极小区域且产品需要快速均匀加热的情况下,例如微晶片生产,使用black.infrared可显着缩短加工时间并有效提高产品品质。
这款辐射器也适用於在高纯度真空条件下运行。与传统的陶瓷和金属辐射器相比,该工艺可以在晶片生产过程中将杂质降至最低。贺利氏特种光源??总裁 Rolf Diehl 表示:「black.Infrared 技术的研发是为了满足半导体生产和太阳能技术工艺的严苛需求,该设计和辐射器技术的全新组合是真空条件下高效超纯加热工艺革命性的突破。」
在制造微晶片期间,半导体制程技术需要进行多个烘乾或固化(heat)的热制程,例如智慧型手机的微晶片生产。在制造过程中,避免微晶片里的化学杂质和各个生产制程步骤中灰尘颗粒的进入非常重要,因为即使是最微小的微量杂质也会导致微晶片有缺陷而无法使用。贺利氏新型辐射器使用特殊研发的石英玻璃作为载体材料,由於此材料化学纯度极高(仅由矽和氧组成),是热制程的理想选择。此外,black.infrared辐射器的设计使得辐射表面允许最隹的均匀性,而与距离无关,这十分有助於优化使用过程空间。
在测试和开发期间,这一新组合展现出能凭藉突出的均匀性和最优控制的发射源,显着提高能效。Rolf Diehl进一步表示:「black.infrared发射器首创将约2.5μm中波红外光与高电能相结合,是目前市面上独一无二的组合。」未来可??有更多工业领域的加热工艺受益於这个新的红外线系统,因为这种中波红外线发射特别适用於玻璃、塑胶和大多数涂膜。
焊锡膏是金属合金粉末与助焊剂的混合物,可以通过模版印刷法、针头点胶法、直接浸渍法或喷射法涂覆于基板上。涂布好焊锡膏後,整块基板会被放入加热炉中进行回流焊。 助焊剂使焊锡粉活化,改善金属的聚结,从而使粉末熔融在一起,完成焊接。
贺利氏电子全球?品经理陈丽珊表示:「各种类型的焊锡膏可应用在无线和蓝牙模组等通讯和消费性电子领域,同时也普遍使用在医疗技术和汽车产业。在对焊接面积大小比较敏感的设备中,系统级整合封装(SiP)基板对焊锡膏的需求更?严苛。基板表面的焊垫越小,焊锡膏所采用的焊锡粉也就越细,例如高密度SiP应用中的部件间隔小於60微米,焊垫尺寸小於100微米,因此必须选择尺寸合适的焊锡粉,才能形成有效、可靠的电连接与焊接。针对客户需求,贺利氏现已研制出4号、6号和7号水溶性焊锡膏。」
陈丽珊进一步说明:「上述这些应用,尤其是封装制程微小化的演进过程中,制程都非常敏感容易造成缺陷,特别是在焊线制程的焊垫表面、表面焊接元件和倒装晶片底面等部位极易出现缺陷,而半导体封装和晶圆凸块技术领域的制造商经常要面对锡球、锡珠、空洞等焊接缺陷。先进封装领域所使用的SiP封装体需要采用细间距印刷,并且要求焊锡膏更易脱模。贺利氏的WS5112焊锡膏可以在小至70微米的焊盘上印刷,细线间距可以达到50微米,而且在回流焊制程中不会出现飞溅,这些特点都有助於?少缺陷,提高良率。」
水溶性WS5112 7号焊锡膏是贺利氏电子最新推出的先进封装?品,采用了贺利氏专利Welco第7号焊锡粉(2-11微米),该?品可供批量采购和样本评估。陈丽珊指出:「这款焊锡膏应用了两项创新成果。首先,贺利氏Welco焊锡粉表面的氧化物含量极低,可以降低空洞。其次,助焊剂所采用的聚合物可有效防止飞溅。此外,钢板印刷的使用时间可以达到8小时。我们的目标是协助高成本的生产线?少生?线停机率以及消除焊接制程的缺陷。」
贺利氏开发出一种黑体般的黑石英,仅由矽及氧组成,能吸收辐射热却不会在本体内传导,非常适用於一些半导体的制程应用。由於半导体在生产制程中即使是最微量的杂质,也会导致微晶片故障而无法使用,而传统的黑石英含有致命的污染元素像是钨或碳,但HBQ就像其他高纯度天然石英一般,杂质总量小於 20ppm,非常适合应用在敏感的半导体制程。
贺利氏石英玻璃公司解决了材料在反应室内产生热辐射控制的问题。HBQ吸收超过95%的热辐射,波长范围从紫外线到可见光至中红外线,辐射率超过 90%,这是二氧化矽基材(石英)中独有的特性,因此HBQ提供了热管理应用的新选择。石英玻璃运用在贺利氏特殊光源上能确保均匀散热,也能被运用在半导体或光电的真空制程。
贺利氏石英玻璃公司是唯一能提供完整热辐射控制,具有透明、反射或吸收特性,达半导体级最高纯度标准的材料供应商。