衝電氣集團（OKI）旗下的提供可靠性評估和環保技術服務的衝工程技術株式會社（社長：淺井裕，總公司：日本東京都練馬區，以下簡稱“OEG”）向半導體生產廠商安森美半導體（ON Semiconductor）公司（社長：Keith D. Jackson，總公司：美國亞利桑那州鳳凰城）歐洲工廠再次提供常壓CVD※1生產設備專用排氣處理設備“KGT-3MM-AP”。該設備採用不易堵塞的獨特構造的過濾器，實現長期免維護的運營模式，可為半導體生產廠商提高生產效率和保護環境作貢獻。

Power FET※2和IGBT※3等功率器件（power device）在製造過程中，半導體絕緣膜的生產離不開常壓CVD生產設備。但該生產設備要使用對人體有害的氣體，所以必須進行排氣處理。

OEG的排氣處理設備“KGT-3MM-AP”採用不容易發生堵塞的特殊不銹鋼過濾器，既提高了有害氣體和微粒的處理能力，又可以長期免維護運營，可減輕設備維護人員的負擔。另外，該設備還安裝有微壓計，通過排氣扇變頻控制確保排氣壓力保持穩定，從而保證長期穩定運行。

2009年，作為天谷製作所（社長：吉岡獻太郎，總公司：日本埼玉縣越谷市）生產的連續常壓CVD生產設備所配備的排氣處理設備，OEG首次向安森美半導體提供了“ KGT-3MM-AP”。該設備投入使用後，連續作業無故障，保證了CVD膜的穩定生產，得到安森美半導體的好評，再次被該公司歐洲工廠採用。 OEG此次提供的設備，在原有基礎上新增加了設備自動恢復作業功能，省去了以往常壓CVD生產設備維護時造成設備內部壓力急劇變化而要手動重新啟動排氣處理設備的作業，提高了客戶的生產效率。

OEG今後將繼續在歐洲和東南亞開拓市場。

【KGT-3MM-AP規格】

產品名稱：常壓CVD生產設備專用排氣處理設備

KGT-□MM-AP （□：1、3、10、特殊型號）

處理能力：□m3/min （□：1、3、10、特殊規格）

壓力控制：－0.15 ～ －0.40KPa範圍內的恆定負壓，或，保持指定負壓

用途：常壓CVD、太陽能電池、晶片製造