随着晶圆尺寸的逐渐增大，对高精度、大范围运动控制的需求也显着提升。本文说明透过雷射干涉仪选用装设有内建增量式光学尺的商用线型马达移动平台，搭配驱动控制器进行定位精度的分析与比较，干涉仪所量测到的位移数据将回授到驱动控制器进行即时回??补偿，以确保每次平台移动到定位时的精准度，以验证其性能优势。

随着现今台湾半导体产业持续迈向更高的量测精度、运作效率及系统整合控制，提升奈米级精准定位的需求变得日益迫切。在当今EUV和E-beam技术的快速发展下，实现晶圆、光罩、光学元件等设备是否可以达成奈米级精密定位成为关键挑战。特别是在高速且大范围的移动应用中，实现奈米级精度不仅要求卓越的运动控制系统，还需能在半导体制程中应对超高真空（UHV）、高洁净环境和高温等苛刻条件。
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