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工業成像的CCD及CMOS技術之對比
 

【作者: Michael DeLuca】   2016年04月21日 星期四

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在工業應用中成像系統的廣泛採用持續擴展,不僅由新的影像感測器技術和產品的開發所推動,還由支援平臺的進步所推動,如電腦功率和高速數據介面。今天,成像系統的使用在各種領域很常見,如配線檢查、交通監測/執法、監控和醫療及科學成像,由於影像感測器技術的進步,使成像性能、讀取速度和解析度提高。隨著影像感測器現在採用電荷耦合元件(CCD)和互補式金屬氧化物半導體(CMOS)技術設計,審視這兩大平臺對於選擇最適合特定應用的影像感測器很有幫助。


電子成像技術的發展始於上世紀60年代,諾貝爾獎得主Boyle和Smith開發出第一個CCD。這些元件是利用摻雜矽的固有能力將光子轉換成電子,並用得到的畫素等級電荷來測量光強度而運作。在架構上,這個設計的最大優勢是簡單,整個畫素區域可用來檢測光子和存儲電荷,提供最大訊號級別,支援高動態範圍。
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