益華電腦(Cadence)的數位與客製/類比工具軟體已通過TSMC台積公司最新10奈米FinFET製程技術的設計參考手冊(Design Rule Manual, DRM)與SPICE模型認證。
Cadence客製/類比和數位設計實現與signoff工具已獲台積電高效能參考設計認證,能夠為客戶提供在10nm FinFET製程上最快速的設計收斂。這些工具軟體包括:
‧ Encounter數位設計實現系統與Innovus設計實現系統:Encounter 數位設計實現系統已獲得16nm FinFET Plus (16FF+) V1.0認證並通過最新DRM與SPICE模型的10nm認證。Encounter數位設計實現系統提供16nm與10nm製程的關鍵技術,並支援平面規劃、佈局與繞線,具備完善整合的顏色/腳位存取/變異性感知的時序收斂、時脈樹與功耗最佳化。Cadence與台積公司也合作進行Cadence最新發表的Innovus設計實現系統認證,預計於今年四月底完成16FF+ V1.0認證,進一步於六月底完成10nm認證。
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