德州仪器(TI)??总裁暨台湾、韩国与南亚总裁李原荣，今（26）日於2022 COMPUTEX Taipei论坛中表示，TI将协助客户充分发挥氮化??（GaN）技术的潜力，以实现更高的功率密度和效率。

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李原荣今日以「资料中心正在扩建 － 以氮化??技术实现更高效率」为题，分享设计工程师如何利用TI 氮化??技术为资料中心达成体积更小、更高功率密度的解决方案。

李原荣表示，随着各产业领导者期盼透过资料中心实现技术创新，从而也提高了运算能力的需求，TI希??协助客户充分发挥氮化??技术的潜力，以实现更高的功率密度和效率。

他也强调，一直以来，TI始终致力於支援台湾和全球客户在不同应用领域里迅速发展。

李原荣补充，TI 的自有产能和长期投资，能够快速扩展氮化??等各项技术，以协助客户透过实现更小的系统来满足不断增长的市场需求，进而以更高的效率处理更多数据。

而面对扩建资料中心的有限空间和伺服器持续运行所需的大量电力，企业必须不断提高资料中心的用电效率及功率密度。

TI的GaN FET如LMG3525R030整合快速切换驱动器，以及内部保护与温度感测功能，可在有限的电路板空间中具有更高效能表现，实现业界领先的功率密度（100W/in3）。而 TI 的C2000即时微控制器提供复杂并具时效性的处理能力、精确控制、软体和周边产品可扩充性等，透过支援不同电源设计与高切换频率的特性，能充分发挥GaN型电源解决方案潜能，从而最大限度地提高电源效率。