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EDA赛事开锣 Mentor与Cadence彼此较劲
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2006年08月16日 星期三

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EDA三大厂商在台湾形成三足鼎立的局面,而最近彼此动作频频,相互较劲意味浓厚,Mentor Graphics正式宣布在台成立研发中心外,Cadence也不甘示弱,与瑞昱合作,瑞昱是设计和开发通讯网络、计算机外设和多媒体应用领域IC设计厂商。Cadence与瑞昱宣布,双方合作降低了功能性错误的风险。

Mentor Graphics近日于新竹举办EDA技术论坛。在论坛中Mentor Graphics针对可制造设计(DFM)、功能性验证、系统设计、IC奈米设计及ESL五大主题,完整介绍了其先进的EDA设计工具。适逢Mentor Graphics成立25周年,执行长暨主席Walden Rhines特别来台,阐述EDA产业的前景与发展,同时正式宣布 Mentor Graphics在台成立EDA研发中心。

由于看好台湾的半导体产业的潜力,Mentor Graphics 亚太区营销总监张维德指出:「台湾半导体产业的优异表现是大家有目共睹的,数字电视及3G手机等新兴应用促使台湾的IC设计业者开始转向更为复杂且更高阶的应用设计。由于看好台湾晶圆代工厂商先进的制程技术,以及台湾半导体产业的成熟发展,在台成立EDA研发中心,将就近协助我们在亚洲的客户及晶圆代工合作伙伴,提高其竞争力,并在最短的时间内以更低的成本开发出功能更多的产品。」

而Cadence宣布,瑞昱已经在其试验性的multi-supply voltage(MSV)设计上采用Cadence的Encounter Conformal Low Power与Encounter Conformal Constraint Designer,降低验证风险。Cadence的产品分层策略,针对不同的设计复杂度,提供客制化、不同层次的技术选择。瑞昱运用Encounter Conformal Low Power在功能与结构上执行检查,找出低耗电设计衍生的重大错误。Encounter Conformal Constraint Designer则帮助瑞昱快速检测出设计过程中不一致与冲突的时序以确保合乎质量要求,并加以验证来达成更快速的时序收敛。

IC设计的复杂度日益提升,而半导体制程技术也从90奈米跨入65奈米,这使得EDA产业必须开发具备高效能及高精准度的新技术,让设计人员在设计、验证、和测试程序的每一个阶段都能将制造列入考虑。在这场EDA竞赛跑道上,Mentor Graphics与Cadence俨然已经离开起跑线,谁会脱颖而出,有待静静观察。

關鍵字: Mentor   Cadence  EDA 
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