半导体产业单晶圆洗净技术业者SEZ Group日前宣布该公司最新发表的DV-38F系统已获得台湾某晶圆代工厂商的采用。DV-38F单晶圆湿式洗净旋转处理工具，是第一套运用SEZ创新Da Vinci平台的产品─一套能满足90奈米及其以下设计规格的新一代组件之生产需求，提供稳定的处理效能与高产量的模块化多重反应炉架构。

SEZ表示，低价的高机能微芯片需求大涨，使得近来全球微芯片制造厂商对以低成本确保最大良率的新洗净方法产生兴趣。Da Vinci系统结合了客户感兴趣的单晶圆洗净技术，挟带这些优势到市场，目前SEZ正在促使Da Vinci系统全产品线加速完工，SEZ的新Da Vinci工具将会在明年第一季结束前上市。完整的Da Vinci系列结合SEZ最新且成熟的技术，将提供业者8吋及12吋量产晶圆的湿洗净处理应用技术。

SEZ营销长Kurt Lackenbucher指出，「DV-38F的问市代表市场对客制化、单晶圆洗净解决方案的需求增加。随着业界迈入90奈米及其以下的技术，芯片业者寻求能以最低成本提供最大良率的洗净解决方案。DV-38F不仅树立新的标竿，在面对严苛的制程效能需求时，协助客户克服研发精密IC所面临的各种洗净挑战，同时也提供芯片制造厂商所需的弹性，让他们的成本运用更具经济效益。新型Da Vinci系列标记了我们迈入SEZ策略蓝图中的另一个阶段，以专利旋转处理技术成为让客户一次购足所有单晶圆处理解决方案的供货商。」