根據外電指出，全球微影設備市場將下降為32億美元，出貨量衰退達433台，比去年的45億美元減少29％，出貨量亦比去年的822台少了47％。事實上，有業者指出，目前微影發展不論就市場或技術來看，都面臨一定的發展瓶頸－除了市值下降外，技術研發成本赤不斷上升。

台積電微影技術研發協理林本堅曾於今年奈米元件技術研討會上表示，若一直使用目前業界的微影技術：紫外光源搭配光罩的方式製作微影圖案，預計到了50奈米以下時，將遭遇難以突破的瓶頸；目前被認為較具量產可能性的下一代微影技術，為極紫外光（EUV）、電子束投射（EPL）及無光罩法（ML2）。

目前日本與歐洲業者為搶佔EUV市場，已投入巨資研發相關設備。據了解，高階微影設備主要供應商為日本Canon與荷蘭ASML，且二家公司的設備效能能相近，但是產品價差高達50％，使得英特爾等廠商轉向日商購買設備；根據VLSI Re-search統計，去年微影設備供應商市占率，日商Nikon以41％領先，Canon為32％的市佔率次之，ASML則名列第三，為24％市佔率。業者指出，為提高市佔率，設備商必需投入更高昂的研發成本，才能搶得市場先機，但是何時真正能回收成本，需視市場需求而定。