Aprio于5月1号宣布参加ARM Connected Community，该公司总裁兼执行长Mike Gianfagna表示:「加入ARM Connected Community可以帮助DFM〈可制造性导向设计〉发展，而且也能为ARM注入IP验证的制造信息。」

ARM Connected Community已经有超过300家半导体设计产业链上的成员，包括有软件供货商、工具开发商、设计工具和服务供货商、操作系统供货商、培训和支持供货商，以及半导体和系统生产商，涵盖了所有的市场应用。而社团的宗旨在于形成会员公司之间的网络，提供以ARM核心为基础的各种解决方案及产品的宣传机会。Aprio将在以ARM Connected社团会员身份活动期间，提供最好的DFM技术，并参加ARM的各种相关展会及会议。

总部位于美国加州的Aprio成立于2003年，去年初针对DFM技术推出首款Halo系列产品后，过去一年来已陆续发表包括Halo-Fix和Halo-iOPC软件，也已与NEC和KLA-Tencor等设备业者形成策略伙伴关系，DFM已成为EDA产业中一个非常热门的议题。

现在兴建一座65nm晶圆厂的成本会超过30亿美元，然而却遭遇到良率不佳、投资报酬率(ROI)低于预期的困境。这其中的原因为IC设计人员不了解制造过程的条件，同样地，制造工程师也不知道他们生产的芯片具备怎样的功能。因此，近来DFM技术的崛起，就是希望能够打破制造与设计之间的隔阂。至今，新崛起的DFM公司就有超过二十家之多，可见其所受重视的程度。

Mike Gianfagna指出，设计与制造之间的隔阂原因在于两方面都使用不兼容的设计方法与数据模式，因此非常难以沟通。Aprio推出的Halo系列产品，就是试图以新的概念来解决设计与制造间的沟通问题。Halo是业界首款能够重新使用OPC(光学近似校正)结果的软件，它是以渐进(incremental)、层级(hierarchical)式的做法处理光罩数据，同时，设计人员能够透过其DFM View功能，检视设计出来的电路在硅晶圆上的实际几何图形。因此，设计人员必须了解微影变异性对电路设计的影响，制造工程师也必须了解其所制作的几何图形所代表的设计涵义。总结来说，惟有透过真正结合设计与制程数据，才能真正达到DFM的效益。