账号:
密码:
最新动态
 
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
力晶与IMEC签约合作开发新世代制程技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2008年01月28日 星期一

浏览人次:【13873】

力晶半导体宣布与比利时微电子研发中心(IMEC)合作,共同开发32奈米微影技术,以强化该公司在先进内存制程的研发动能。

据了解,IMEC产学合作研发绩效卓著,在半导体领域累积可观的科技能量,目前该中心所从事的研发工作,估计领先业界需求三至十年。因此,IMEC与全球各大企业、大学与重要研究机构组成强大的研发网络,成为影响未来系统科技发展不可或缺的关键伙伴。力晶将与IMEC合作发展先进显影技术的研发,并派遣工程人员赴比利时参与相关的研究项目。

力晶半导体董事长黄崇仁博士指出,由于显影技术微缩至32奈米时,将遇到物理极限,同时研发费用也将倍数成长,因此,联盟合作开发的趋势将会越来越显著。包含英特尔、台积电在内的国际级半导体大厂,以及三星、美光等内存业者,均已和IMEC建立长期的研发合作机制。随着力晶规模成长、技术推进,为避免在先进制程技术开发中缺席,该公司决定与IMEC签约,参与此全球性的产学合作研发网络,期能加速推进制程,进一步发挥力晶的高效率量产优势。

關鍵字: DRAM  力晶半导体  比利時微  IMEC  动态随机存取内存 
相关新闻
台欧携手 布拉格论剑 晶片创新技术论坛聚焦前瞻发展
Crucial扩展DDR5 Pro电竞记忆体产品组合 为游戏玩家提供更快速度
imec车用小晶片计画汇集Arm、日月光、BMW集团等夥伴
美光超高速时脉驱动器DDR5记忆体产品组合 可助新一波AI PC发展浪潮
imec执行长:全球合作是半导体成功的关键
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 进入High-NA EUV微影时代
» 跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
» 2024年:见真章的一年
» 小晶片大事记:imec创办40周年回顾
» 运用能量产率模型 突破太阳能预测极限


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8B64ERLZYSTACUKG
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw