Mentor Graphics（明導）宣布與 GLOBALFOUNDRIES合作，認證Mentor RTL到GDS平臺（包括 RealTime Designer物理RTL合成解決方案和Olympus-SoC佈局佈線系統）能夠完全適用於當前版本的 GLOBALFOUNDRIES 22FDX平臺設計參考流程。此外，Mentor和GLOBALFOUNDRIES還合作開發適用於 22FDX平臺的製程設計套件（PDK）。該 PDK支援Mentor Calibre平臺，涵蓋適用於 22FDX平臺的設計規則檢查（DRC）、版圖與電路圖比較（LVS）和金屬填充解決方案。這些解決方案可幫助雙方客戶利用 22FDX 技術中的功能來管理功耗、效能和電流洩漏，優化他們的設計。

Mentor與GLOBALFOUNDRIES合作開發適用於22FDX平臺的設計參考流程和製程設計套件。

GLOBALFOUNDRIES業務開發副總裁Pankaj Mayor表示：「我們與 Mentor Graphics密切合作，使其產品能夠幫助客戶落實22FDX平臺的優勢。Mentor工具用於實作流程和設計驗證的認證，將幫助設計人員實現功耗、效能和成本之間的最佳平衡。」

在先進技術的設計流程中，RealTime Designer可以滿足諸多需求，包括更高容量、更快執行時間、改進結果品質（QoR）和結合佈局規劃功能。尤其是對於22FDX平臺而言，它支援對基於統一功率格式（UPF）、多Vt優化、電流洩漏和動態功率分析及優化、獨特的RTL級別佈局規劃技術的多VDD 設計，從而改進QoR和執行時間。Olympus-SoC工具能夠全面解決使用先進技術時在性能、容量、上市時間、功率和可變性方面遇到的難題。支援 22FDX包括低功率功能，例如多 VDD 流程、並行多邊多模時序和功率優化、前向和反向偏置處理、在電網上插入DCAP單元以減少噪音。

Mentor Graphics的IC實作部門總經理Pravin Madhani表示：「我們的客戶要設計一些適用於移動、無線、網路和圖形產品的最複雜晶片。與GLOBALFOUNDRIES合作，使我們能為雙方共同客戶提供適用於22FDX平臺的先進數位實作流程。

Calibre nmDRC、Calibre nmLVS和Calibre YieldEnhancer工具提供可用於22FDX PDK的驗證功能。核心的DRC和LVS驗證是由Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS工具提供。Calibre YieldEnhancer 工具中的SmartFill功能可藉由智慧自動方式填充設計，提供填充形狀的最佳分佈和佈局，從而幫助設計人員達到平坦度和密度要求，減少填充後的時序更改。

新版的 22FDX PDK 將GLOBALFOUNDRIES特有的 DFM 功能提供給設計人員。GLOBALFOUNDRIES 提供DRC+、製造分析和記分（MAS）和Yield Enhancement Services（YES）設計套件，這些基於 Calibre 平臺的產品，可幫助設計團隊分析用 22FDX 製程技術的設計風格對可製造性的影響。DRC+方法使用Calibre Pattern Matching工具的快速圖形匹配功能，識別有問題的微影圖形，然後使用Calibre nmDRC對這些圖形的發生區域執行更嚴格的設計限制。MAS和YES方法有助於降低製造可變異性：MAS採用 Calibre YieldAnalyzer中的DFM記分功能，可穿過所有層對IP模組和SoC進行記分；在YES服務中，GLOBALFOUNDRIES工程師使用Calibre YieldEnhancer中的 Layout 修改功能，可修改邊緣和導孔（Via）擺放位置，進而提升 Layout 的穩健性。

Mentor Graphics的Design to Silicon事業部副總裁Joseph Sawicki表示：「藉由先進的Calibre分析和驗證功能整合到其22FDX平臺中，GLOBALFOUNDRIES提供了設計人員所需的工具提高其產品的穩健性。這不僅可確保高品質的設計送去製造，還可確保設計能更快量產。」

Mentor Graphics和GLOBALFOUNDRIES正合作能支援先進寄生電路參數抽取和可靠性驗證 Sign-off 功能的Calibre xACT和 Calibre PERC解決方案。（編輯部陳復霞整理）