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Mentor Graphics推出Calibre xRC
全芯片晶体管层级的系统单芯片寄生参数摘取工具

【CTIMES/SmartAuto 張慧君报导】   2002年08月29日 星期四

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Mentor Graphics于26日宣布推出Calibre xRCTM,一套全芯片晶体管层级的寄生参数摘取工具,可支持目前最复杂的模拟与混合信号系统单芯片设计,满足它们的运算效能与精准度需求。

随着Calibre xRC的推出,Mentor再度扩大CalibreO核心技术应用范围,使其也能满足模拟与混合信号系统单芯片的寄生参数摘取要求;Calibre xRC同时结合已通过实际考验Calibre阶层引擎的优异效能、大容量和阶层式几何处理能力以及xCalibreO的精准度和布局与线路对比的功能。

传统上,寄生参数摘取工具都经过特定规划和设定,以满足特定设计流程的要求,这迫使系统单芯片设计人员必须采用多套工具,或是使用一些不适合多种设计型式(design styles)功能的工具。Calibre xRC却和其它工具不同,它的架构可以透过单套工具提供最好的寄生参数摘取技术,以支持模拟与混合信号系统单芯片设计(模拟、内存、全客户规格等等)可能用到的各种设计方法。

Mentor Graphics实体验证与分析部门总经理Joe Sawicki表示,模拟与混合信号系统单芯片设计为寄生参数摘取创造一个全新领域,需要混合层级分析才能满足其需求,目前市场上只有Calibre xRC才能做到这一点;把Calibre xRC 用于系统单芯片设计流程,客户即可得到最精准快速的验证和寄生参数摘取效能。

若被动导线的寄生参数效应未获得适当处理,今日的模拟与混合信号系统单芯片设计就可能发生问题,这些寄生参数效应不仅会影响信号时序,组件的功率消耗、可靠性和噪声也会受到冲击;要详细分析这些效应,除了传统的SPICE电路列表及信号时序档案之外,还需要其它更多数据。模拟与混合信号系统单芯片需要一套完整方法,才能完成精确的寄生参数摘取分析,这些方法包括:精准的摘取算法,精确仿真今日先进制程的导线寄生参数效应;与设计环境紧密整合,确保在流程前端的设计建立环境中,或是流程后端的布局完成后的分析过程,都能以极高效率完成数据处理;先进的数据管理功能,必须有能力处理从系统单芯片设计摘取出来的庞大寄生参数数据‧

關鍵字: Mentor  Joe Sawicki  其他電子邏輯元件 
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