明导国际 (Mentor Graphics)宣布推出Calibre LFD(Litho-Friendly Design)，这套产品不但为IC设计流程带来全新思维，还进一步扩大Mentor的可制造设计 (DFM) 解决方案产品阵容。Calibre LFD在设计流程初期就能管理制程变异，这是第一套能够满足此项迫切需求并通过实际产品考验的EDA工具。Mentor是在本周举行的欧洲设计、自动化与测试研讨会上推出这套新产品。

Calibre LFD允许设计人员做出各种设计取舍，以便产生更可靠和不易受到微影制程适用范围 (lithographic process window) 影响的设计。这不但对90奈米技术很重要，更是65奈米制程的成败关键，这类制程变异性会对硅芯片结果造成重大冲击。

「高良率设计能力对于奈米技术极为重要。」超威 (AMD) 首席技术专家Luigi Capodieci表示，「Calibre LFD加入现有流程后，我们就能在设计初期进行布局取舍，这将大幅改善布局在制程适用范围内的可靠性。」

Calibre LFD还能计算Design Variability Index (DVI)，这项参数可用来判断设计对于制程变异的承受能力；DVI值越低，就代表设计越可靠。设计人员能利用DVI比较不同布局方式，再选择最不易受制程变异影响的布局。

Calibre LFD是以通过实际产品考验的Calibre设计与制造平台为基础，并能透过Calibre Interactive轻易在各种常见的布局环境使用。Calibre LFD会如同迭代性设计步骤一样加入设计流程，并继续使用原设计所用的布局编辑器。设计人员还能使用Calibre RVE或Calibre DESIGNrev等布局显示与编辑工具以及结果显示环境来观察检查结果和变异数据库。

分析制程变异性以提高布局的可靠性是可制造设计的重要新步骤。Calibre LFD为这项工作奠定基础，让设计人员能够管理所有新制程的良率影响因素。

「确保可转印性 (printability) 过去是晶圆代工厂商的责任。」Mentor Graphics设计与制造部门副总裁暨总经理Joe Sawicki表示，「现随着Calibre LFD出现，设计人员第一次能透过制程适用范围的变异来影响设计良率。」