明導國際（Mentor Graphics）宣佈松下電器（Matsushita Electric Industrial）所屬的半導體公司已決定將Calibre OPCverify工具用於65奈米和更先進製程的生產作業。Calibre OPCverify能於製造晶片前找出和修復潛在的重大良率問題，進而克服製程變異管理的艱巨挑戰。

Calibre OPCverify使用已通過晶片驗證的Calibre OPCpro模擬模型，這種下一代RET驗證工具提供全晶片的模擬涵蓋範圍以確保晶片圖案轉移成功。Calibre OPCverify像素式模擬引擎所採用的專利演算法可定義不利於圖案轉移的各種條件（曝光劑量、焦距），進而克服製程變異所產生的負面影響。Calibre OPCverify所有建模功能都已針對最先進的製程條件完成徹底的特性分析，例如濕浸式微影技術（immersion lithography）。Calibre OPCverify工具還採用最嚴謹的模型開發與驗證方法，這使它能同時滿足RET配方驗證和光罩檢驗的最嚴苛要求。

使用Calibre OPCverify的另一優點是這些工具能以最佳方式利用現有硬體，例如它們能結合今日工作站的高速運算效能和Calibre MTflex的並行處理能力來大幅縮短全晶片RET驗證的TAT時間（Turn Around Time）。由於這套工具與所用的設計方法無關，使用者會發現驗證所需時間穩定而能預測，整套工具也將具備良好的擴充性。雖然實際驗證時間與所用硬體有關，Calibre OPCverify兆像素模擬器可擴展使用數百顆處理器和支援展平式或階層式設計，同時確保生產環境能夠預測TAT時間。