帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 產品 /
三大晶圓廠競飆技術
台積、聯電、特許爭窈窕

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2002年06月13日 星期四

瀏覽人次:【2498】

台積電12日宣布開發出鰭式場效電晶體(FinFET)元件雛型,此新式互補金氧半導體(CMOS)電晶體閘長小於25奈米;聯電與Micronas簽訂五年晶圓代工協議,並取得MIPS的Amethyst核心授權;新加坡特許(Chartered)則取得Unive的混合信號輸出入矽智產元件。

FinFET源自於傳統標準的場效電晶體 (FET),在傳統電晶體結構中,控制電流通過的閘門,只能在一側控制電路接通與斷開。預期可以進一步縮小至9奈米(0.09微米),大幅改善電路的可控性及漏電流問題,並解決CMOS製程的物性限制,並可使CMOS製程生產技術再延伸約二十年以上。。

聯電與德商Micronas則宣佈五年晶圓專工協議,聯電將為Micronas生產混合信號晶片。聯電表示,Micronas第一階段平面顯示器控制晶片設計已於四月完成,現正驗證中,而單晶片混合類比與數位電視解碼器的首批試產(firstengineering)也正進行中,兩樣產品皆採用聯電0.18微米混合CMOS製程技術。

特許則表示,目前Unive的包括LVDS、SSTL2與USB2.0元件,將使用特許0.13至0.18微米製程,同時也提供擴展到0.09微米技術的空間。

關鍵字: 晶圓廠  台積  聯電  特許(特許半導體
相關產品
聯電推出首款RFSOI 3D IC整合方案 加速5G時代創新
聯電40奈米RFSOI平台優化毫米波射頻前端 加速5G裝置開發
Xilinx與台積攜手合作成功量產All Programmable 3D IC全系列產品
智原科技推出聯電65奈米LL製程記憶體編譯器
IBM、特許、Infineon及三星發表45nm矽電路製程
  相關新聞
» 應材發表新晶片佈線技術 實現更節能AI運算
» 工研院51週年:未來50年將成為國際的工研院
» 工研菁英獎6項金牌技術亮相 創新布局半導體、5G及生醫新市場
» 聯電首推22eHV平台促進下世代智慧型手機顯示器應用
» SEMICON Taiwan將於9月登場 探索半導體技術賦能AI應用無極限
  相關文章
» 使用PyANSYS探索及優化設計
» 隔離式封裝的優勢
» MCU新勢力崛起 驅動AIoT未來關鍵
» 功率半導體元件的主流爭霸戰
» NanoEdge AI 解決方案協助嵌入式系統開發應用

刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HK87HC49ER4STACUKT
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw