账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
日本普利司通成功开发碳化硅晶圆
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年12月03日 星期三

浏览人次:【4878】

据日本经济新闻报导,日本轮胎业者普利司通投入半导体晶圆事业有成,该公司已经开发出利用碳化硅产制的晶圆,可做为通讯、发电设备及汽车用之高性能半导体材料,并将在2004年下半年推出商业化产品,并计划在2010年达到月产能10000片,营业额100亿日圆。

该报导指出,碳化硅比起现今主流的硅具备更佳耐热性及耐电压性,例如碳化硅可在摄氏500度时利用,为硅之利用温度的两倍以上。普利司通系将碳化硅粉末加热制成气体,以再结晶的手法将气体制成单结晶的晶圆,产品直径为2吋。

普利司通自今年起开始制造、销售碳化硅陶瓷产品,预料将作为半导体制造设备使用的发热器。在碳化硅晶圆方面,美国北卡罗莱纳州的业者库里率先群伦,日本国内则有新日本制铁、HOYA等业者积极从事碳化硅事业。

普利司通除积极宣传碳化硅的高质量,也将开发直径3至4吋的大尺寸产品,以期掌握新市场的主导权。普利司通设在东京都小平市的技术中心,拥有月产能1000片的试作生产线,将视来自半导体厂商的订单陆续扩大产能。

關鍵字: 普利司通 
相关新闻
达梭系统帮助普利司通EMEA区域
普利司通成功开发A3尺寸彩色电子纸
电子纸开发热 普利司通展示高亮度彩色电子纸
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 使用PyANSYS探索及优化设计
» 隔离式封装的优势
» MCU新势力崛起 驱动AIoT未来关键
» 功率半导体元件的主流争霸战
» NanoEdge AI 解决方案协助嵌入式开发应用


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BN3RF7XASTACUK2
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw