盛美半導體設備(ACM)宣佈已收到半導體製造商的Ultra C SAPS前道清洗設備的DEMO訂單。預計該設備將於 2022 年一季度在客戶位於中國地區的工廠進行安裝調試。

“這個訂單表明盛美有很大機會贏得該全球性半導體公司在華工廠的信任，”盛美半導體設備董事長王暉博士表示，“這家製造商選擇評估盛美的 SAPS 技術，旨在提升其研發能力和生產制程能力。我們相信，這台設備成功通過評估後，我們與這家客戶以及該區域內的其他主要客戶會有更多的業務與合作機會。”

盛美的專利空間交變相位移 (SAPS)晶圓清洗技術，運用了兆聲波的交替相位變化以控制兆聲波發生器與晶圓之間的間距。與先前的兆聲波晶圓清洗系統所採用的固定式兆聲波發生器不同，SAPS 技術在晶圓旋轉時會往復移動，因而即使晶圓有翹曲，所有點接收到的兆聲波能量也是均勻的。

SAPS 制程的清洗效率比傳統兆聲波清洗制程高，不會造成額外的材料損耗，也不會影響晶圓表面粗糙度。該設備相容了無損兆聲波清洗功能，對結構性圖形清洗表現更好。現已證明，對19納米及以下的小顆粒均有顯著清洗效果。