前達科技(Avant!)與特許半導體日前共同宣佈，雙方將更進一步合作，提供客戶額外的"Communications-Smart"解決方案。而Avant!的Libra libraries以及Hercules-II驗證規則，將做為特許0.13微米、低介電值(low-k)材料銅通訊相關製程的解決方案。透過這樣的協力合作，Avant!和特許將可以提供客戶更先進的方法來處理通訊產品有關矽密度、表現優劣以及可靠性等的問題，同時，也讓客戶有能力來生產新世代的消費性電子及週邊產品。

Avant! 0.13微米的Libra libraries將提供最佳化矽標準單元、同軸2.5及3.3伏特I/O應用及四個記憶體編輯器，而這些都是針對特許系統單晶片製程所提供的最佳組合。Avant! 將提供特許0.13微米製程技術Libra-Visa process-specific及Libra-Passport multi-foundry libraries。從今年第一季開始，特許的客戶就可以使用Avant!的DRC。

特許半導體一直是Avant!在EDA及IP虛擬網路上的策略性合作夥伴，這次特許將Avant!的Hercules-II加入驗證工具組合中，用來支援0.25微米到0.13微米的技術，雙方的合作關係可說是更上一層樓。

特許全球營運發展部門副總裁Kevin Meyer表示：「我們成功地與Avant!長期合作，使得我們可以向客戶保證，他們能夠得到配合我們新的0.13微米製程中最完整的解決方案。事實上，Avant! 的library系列，一直獲得我們特許客戶的好評，我們相信這次新增加的0.13微米Libra libraries也將為客戶們帶來成功的設計以及有效的支援服務。另外，我們還加入Avant!Hercules-II驗證工具，希望能為客戶提供更多EDA的工具選擇。」

Avant! 前達科技總裁徐建國表示：「我們很高興與特許半導體的合作關係延伸到0.13製程技術的Libra-Visa Library及multi-foundry Libra-Passport Library，以及領先業界的Hercules-II 實體驗證工具。Avant! 和特許的合作將帶給我們共同的客戶更先進的設計解決方案。我們也很高興在開發libraries及ICDA工具時，能與業界頂尖的晶圓廠特許半導體共同合作，並且分享經驗，相信在這樣的合作下，將可以幫助客戶解決更複雜的設計問題，迎接更多半導體技術的挑戰。」