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提升半导体制程竞争力 晶圆厂纷纷拉高研发费用
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年05月02日 星期三

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台积电、联电及华邦电为提升半导体制程竞争力,今年首季研发(R&D)费用不断飙高,其中台积电创下24.4亿元新高,联电18.6亿元,华邦电也大幅增至8亿元,投入研发项目以0.13微米到0.1微米制程为主。

台积电公布,今年首季研发费用数字高达24.4亿元,比去年同期的8.6亿元,大幅增加181.6%,亦比去年第四季的13.5 亿元增加80.7%。按照张孝威的说法,台积电今年每季研发费用增加10亿元左右。

华邦电以往制程技术都以向东芝技术转转为主,去年加入东芝、富士通的制程研发联盟后,即投入大量资金,研发0.13微米到0.1微米制程,目前已进入试产阶段,对于未来的动态随机存取内存(DRAM)生产来说,可以大幅降低成本。

IC业者指出,以往台湾IC厂多半以技术转移的代工模式进行生产,去年下半年IC产业景气开始下滑,美、日大厂逐渐淡出生产及制程,而台积电、联电及华邦等厂正好利用此机会,大幅增加研发比重,希望取得新世代制程主导权。

關鍵字: 半导体制程  台积电  联电  华邦电  东芝  富士通 
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