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Mentor Graphics Calibre DRC 支持TSMC 90奈米制程技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2002年06月04日 星期二

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Mentor Graphics和台积电于5月28日共同宣布,开始为台积电最先进的90奈米制程, Nexsys ,提供Calibre DRC实体验证(设计规则检查)。在台积电与Mentor Graphics工程团队的密切合作下,Calibre产品获得进一步加强,可准确支持台积电先进的Nexsys 90奈米制程;这些90奈米制程实体验证可充份利用Calibre最先进功能,确保设计人员使用台积电的参考流程时,可迅速验证他们以Nexsys技术为基础的系统单芯片设计。

Mentor Graphics表示,台积电的Calibre的 DRC实体验证接受完整认证,使设计能从tape-out顺利进入制造阶段。台积电营销副总经理胡正大表示,设计工程师可依赖高质量的Calibre实体验证,来检验他们的台积电芯片设计;台积电不但让这些设计规则通过严格的双盲式(double-blind)质量保证检查程序,而且在过去的两年半里,还在实际生产环境中使用Calibre验证客户设计,因此台积电知道Calibre可以涵盖真实世界的设计条件。

Mentor Graphics实体验证与摘取部门总经理Joseph Sawicki表示,90奈米技不但需要实体验证工具提供前所未有的效能和处理容量,它们还必须具备强大弹性,允许系统单芯片包含设计方式差异极大的模拟和数字IP硅智财组件。Calibre已做好充份准备,足以面对90奈米技术带来的设计挑战。

透过台积电的设计服务联盟(EDA Alliance)以及Mentor Graphics的可制造性设计硅晶伙伴计划(DFM Silicon Partners Program),两家公司已成为关系密切的合作伙伴,共同发展许多实体验证规则检查(DRC)、布局与线路查对(LVS)以及寄生RC抽取规则,台积电并透过密码保护的在线客户服务系统(TSMC On-Line)提供这些档案下载服务,包括命令文稿(scripts)、编译命令档(makefiles)以及公用程序,另外还提供应用说明、使用手册和教材,

關鍵字: Mentor Graphics  TSMC  EDA 
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